在晶圆制造与减薄工艺中,晶圆整体厚度及 TTV(Total Thickness Variation)是影响光刻对准与封装良率的关键参数。传统接触式测量效率低,且存在划伤晶圆表面的风险。立仪采用非接触式光学测量方案,对晶圆表面进行高精度高度扫描,实现晶圆厚度与 TTV 的稳定测量,在保证测量精度的同时避免对晶圆造成损伤。
在晶圆制造与减薄工艺中,晶圆整体厚度及 TTV(Total Thickness Variation)是影响光刻对准与封装良率的关键参数。传统接触式测量效率低,且存在划伤晶圆表面的风险。立仪采用非接触式光学测量方案,对晶圆表面进行高精度高度扫描,实现晶圆厚度与 TTV 的稳定测量,在保证测量精度的同时避免对晶圆造成损伤。